TMAL（三甲基铝）的蒸气压力公式

三甲基铝TMAL 在液态时呈二聚体状态，即Al2(CH3)6，在气相时二聚体和单体互相转换。 主要用于MOCVD工艺制备AlGaAs，AlGaInP光电子器件中。 它是应用最广的铝源，三甲基铝有最高的蒸气压。