制备及性能研究：2005年的CoCrPt/CrTi玻璃盘基硬盘记录介质

采用射频磁控溅射方法制备了CoCrPt/CrTi玻璃盘基高密度硬盘薄膜记录介质，讨论并分析了溅射气体的气压、基片温度、底层和磁性层组分对高密度硬盘记录介质性能的影响，给出了介质的底层、磁记录层的最佳组分和溅射中最佳工艺参数范围。其最佳组分、结构与工艺参数为：Co68Cr17Pt15/Cr85Ti15双层膜结构，氩气压为0.56～0.60Pa，在550℃纯N2保护下保温1h后在炉内自然冷却至室温。实验结果表明采用优化工艺条件，并经过退火处理后可以得到适于巨磁电阻磁头读写的高密度硬盘记录介质。